Motion에서 래스터화가 입자 및 리플리케이터에 영향을 미치는 방식

그룹이 래스터화되면 해당 그룹의 입자 및 리플리케이터 요소가 영향을 받으며 더 이상 예상대로 다른 레이어 및 그룹과 상호 작용하지 않을 수 있습니다. 입자 및 리플리케이터는 래스터화된 그룹의 요소와 3D로 계속 상호 작용합니다.

3D 입자 에미터는 속한 그룹과 독립적으로 래스터화될 수 있습니다. 따라서 결과 입자는 동일한 그룹 내의 대상체와 예상대로 상호 작용하지 않을 수 있습니다. 예를 들어 입자 에미터에 원형 흐림 효과 필터를 적용하면 입자가 더 이상 동일한 그룹의 다른 대상체와 교차하지 않습니다. 3D 그룹이 래스터화되도록 하는 동일한 작업으로 인해 3D 입자 에미터가 래스터화됩니다. 이 효과를 최소화하려면 에미터의 소스 대상체에 필터를 적용하거나 에미터 인스펙터에서 3D 체크상자를 선택 해제하십시오.

그룹 또는 3D 입자 에미터가 래스터화되면 그룹이 더 이상 그룹 외부의 대상체와 교차할 수 없습니다. 다음 왼쪽 이미지에서 입자 에미터를 포함하는 래스터화되지 않은 그룹은 다른 그룹의 요소와 교차합니다(입자 렌더링이 글로벌 3D로 설정된 경우). 오른쪽 이미지에서 별 입자 그룹에 적용된 블룸 필터가 래스터화를 트리거하여 에미터는 더 이상 다른 그룹의 요소와 교차하지 않습니다.

3D 입자가 래스터화의 영향을 받는 방식을 보여주는 캔버스

참고: 벡터 그래픽과 달리 래스터화된 2D 그룹은 그룹 인스펙터에서 ‘고정 해상도’ 체크상자를 선택한 경우 크기를 조절할 때 화질이 저하될 수 있습니다.

다음 왼쪽 그림에서 리플리케이터를 포함하는 래스터화되지 않은 그룹은 다른 그룹의 이미지와 교차합니다. 오른쪽 그림에서 리플리케이터 그룹에 적용된 그라디언트 흐림 효과 필터로 인해 리플리케이터 그룹이 래스터화되었습니다. 이로 인해 리플리케이터는 더 이상 다른 그룹의 이미지와 교차하지 않습니다.

래스터화 전후의 3D 리플리케이터를 표시하는 캔버스

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